holikaholika MILD SUN BLOCK 成份

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發表於 2017-09-25 , 資料來源：不清楚

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Water 水	溶劑			1
Zinc Oxide 氧化鋅	收斂, 防曬	1	0	2-6
Dimethicone 矽靈, 地美司康, 二甲基矽酮, 二甲矽油, ...	肌膚調理, 柔潤劑	1	0	1-3
Cyclopentasiloxane 環戊矽氧烷, 聚矽氧化合物, 十甲基環五矽氧烷, ...	溶劑, 柔潤劑			3
Titanium Dioxide 二氧化鈦	色料, 防曬	0	0	6
C12-15 alkyl benzoate C12-15 烷醇苯甲酸酯, ...	肌膚調理, 柔潤劑			1
Phenyl Trimethicone 苯基三甲基聚矽氧烷, 苯基聚三甲基矽氧烷	抗靜電			1
Cetyl PEG/PPG-10/1 dimethicone 鯨蠟基聚乙醇/聚丙二醇-10/1聚二甲基矽氧烷, ...	界面劑, 肌膚調理, 乳化劑			3
Butylene Glycol 丁二醇, 1, 3-丁二醇	溶劑, 香料, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	1	0	1
Ethylhexyl Methoxycrylene 乙基己基甲氧基克立林	防曬
PEG-9 Polydimethylsiloxyethyl Dimethicone PEG-9 聚二甲基矽氧乙基聚二甲基矽氧烷	肌膚調理, 乳化劑			3
Methyl methacrylate crosspolymer 甲基丙烯酸甲酯交聯聚合物				1
1,2-Hexanediol 1, 2-己二醇	溶劑			1
Sorbitan sesquioleate 失水山梨醇倍半油酸酯, 山梨坦倍半油酸酯	乳化劑			1
Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer 聚二甲基矽氧烷/乙烯基聚二甲矽氧烷交聯聚合物	黏度控制			1
Disteardimonium Hectorite 二硬脂基二甲基胺鋰皂石, 二硬脂二甲銨鋰蒙脫石	黏度控制			1
Triethyl citrate 檸檬酸三乙酯	溶劑			1
Hydrogen Dimethicone 氫化聚二甲基矽氧烷				1
Alumina 礬土, 氧化鋁	黏度控制			2
Silica 矽石, 石英, 二氧化矽	黏度控制
Polyhydroxystearic acid 聚羥基硬脂酸	乳化劑			1
Glyceryl behenate 甘油山崳酸酯	柔潤劑, 乳化劑			1-3
Polyglyceryl-6 Octastearate 聚甘油-6 八硬脂酸酯	柔潤劑, 乳化劑			1
Sodium chloride 氯化鈉, 食鹽	黏度控制		0-3	1
SolanumLycopersicumFruitExtract 番茄果萃取	抗氧化
CitrullusLanatusFruitExtract 西瓜果萃取	肌膚調理			1
CitrusParadisiFruitExtract 葡萄柚果萃取	肌膚調理			1-2
CitrusAurantiumDulcisFruitExtract 甜橙果萃取	肌膚調理			2-4
CaricaPapayaFruitExtract 番木瓜果萃取	肌膚調理			1
PrunusArmeniacaFruitExtract 杏果萃取	肌膚調理			1
Ethylhexylglycerin 乙基己基甘油				2
Fragrance 香料, 香水, 香精, 香味	香料			4

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