HOLIKA HOLIKA Soda Pore Cleansing O2 Bubble Mask 成份

此筆資料已不存在(因上傳者刪除、重複或不完整)，建議您再使用站內搜尋相關資料。

發表於 2023-01-28 , 資料來源：官方網站

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Water 水	溶劑			1
Ammonium Lauryl Sulfate 十二硫銨, 十二烷基硫酸銨, 月桂基硫酸銨	界面劑			1
Glycerin 甘油, 丙三醇	溶劑, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	0	0	1-2
Ethyl Perfluoroisobutyl Ether 全氟異丁基乙基醚	溶劑
Ethyl Perfluorobutyl Ether 乙基全氟丁基醚	溶劑, 黏度控制			4
Acrylates Copolymer 丙烯酸酯聚合體, 丙烯酸(酯)類共聚物	抗靜電			2
Isononyl Isononanoate 異壬酸異壬酯, 蠶絲油	合成酯, 抗靜電, 柔潤劑			1
Ethylhexyl Isononanoate 異壬酸乙基己酯				1
PEG-7 Glyceryl Cocoate PEG-7 椰酸甘油, PEG-7 椰子油酸單甘酯, ...	界面劑			1-4
Polyhydroxystearic acid 聚羥基硬脂酸	乳化劑			1
Arginine Cocoate 椰油酸精氨酸鹽	肌膚調理			1
Mineral Water 礦泉水	溶劑
Butylene Glycol 丁二醇, 1, 3-丁二醇	溶劑, 香料, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	1	0	1
Sodium Cocamidopropyl PG-Dimonium Chloride Phosphate 椰油醯胺丙基 PG-二甲基氯化銨磷酸酯鈉				1
Xanthan Gum 黃原膠, 三仙膠, 山羊膠, 漢生膠	界面劑, 黏度控制			1
Melaleuca Alternifolia Extract 白千層, 瓶刷子樹, 白油樹, 茶樹, ...	肌膚調理, 鎮靜消炎			1
Actinidia Chinensis Fruit Extract 中華獼猴桃果萃取	肌膚調理, 柔潤劑
Ethylhexylglycerin 乙基己基甘油				2
Sodium bicarbonate 碳酸氫鈉	酸鹼調節			1
Disodium EDTA 乙二胺四乙基二鈉, 乙酸乙二胺二鈉, ...	黏度控制			1
Phenoxyethanol 苯氧乙醇, 苯氧基乙醇, 二苯氧基乙醇	防腐劑			2-4
Fragrance 香料, 香水, 香精, 香味	香料			4
CI 42090 FD&C 色料藍色一號, 酸性藍 9, ...	色料			2-7

此成分清單正確

此成分清單有誤

6MB以內的 .jpg/.gif/.png 含此產品條碼之相片

刪除現有條碼

或網址

6MB以內的 .jpg/.gif/.png 檔案，上傳後長或寬將被等比例縮放

刪除現有圖片