RMK W Cleansing Gel ingredients list

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Posted on 2024-04-02 , Data Source: Official Website

Ingredient	Function	Acne	Irritant	Safety
Aqua 水	Solvent			1
DPG	Solvent, Moisturizer			1-2
PEG-20 GLYCERYL ISOSTEARATE イソステアリン酸ＰＥＧ－２０グリセリル	Surfactant			3
Methyl gluceth-10 メチルグルセス－１０	Moisturizer, Emulsifier			1
Alcohol エタノール	Solvent			1
PEG-20 Glyceryl Triisostearate トリイソステアリン酸ＰＥＧ－２０グリセリル	Emulsifier			3
Diglycerin ジグリセリン	Moisturizer			1
PEG20	Solvent, Moisturizer			3
PEG/PPG/polybutylene glycol-8/5/3 glycerin ＰＥＧ／ＰＰＧ／ポリブチレングリコール－８／５／３グリセリン	Moisturizer			3
Isononyl Isononanoate イソノナン酸イソノニル	Synthetic ester, Antistatic, Emollient			1
Carbomer カルボマー	Viscosity Control	1	1	1
Phytosteryl/Octyldodecyl Lauroyl Glutamate ラウロイルグルタミン酸ジ（フィトステリル／オクチルドデシル）	Emollient			1
Parfum 香料	Fragrance			4
KOH 水酸化Ｋ	pH Adjusters			2-5
Octinoxate メトキシケイヒ酸エチルヘキシル	Sunscreen	0	0	5
Prunus Armeniaca Juice アンズ果汁	Moisturizer			1
Xanthan Gum キサンタンガム	Surfactant, Viscosity Control			1
Macadamia Integrifolia Seed Oil マカデミア種子油	Skin conditioning, Plant extract
Prunus Amygdalus Dulcis Oil アーモンド油	Emollient	3		1
Butylene Glycol ＢＧ	Solvent, Fragrance, Viscosity Control, Skin conditioning, Moisturizer	1	0	1
EDTA2Na	Viscosity Control			1
Glycerol グリセリン	Solvent, Viscosity Control, Skin conditioning, Moisturizer	0	0	1-2
Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル	Sunscreen			2
Tremella fuciformis polysaccharide シロキクラゲ多糖体	Moisturizer
Laminaria Japonica Extract マコンブエキス				1
Rosmarinus Officinalis Leaf Extract ローズマリー葉エキス	Skin conditioning			1
Alpinia Speciosa Leaf Extract ゲットウ葉エキス	Skin conditioning			1
FD&C Blue No.1 青１	Pigment			2-7
CI 61570 緑２０１	Pigment			8

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