D program 藥用遮瑕成份 | CosDNA

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發表於 2019-08-22 , 資料來源：官方網站

成份	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Dipotassium Glycyrrhizate グリチルリチン酸ジカリウム甘草酸鉀, 甘草酸二鉀鹽, 甘草酸二鉀	鎮靜消炎, 抗敏			1
Erythritol エリスリトール赤蘚醇	保溼			1
Aqua 精製水	溶劑			1
Cyclopentasiloxane デカメチルシクロペンタシロキサン環戊矽氧烷, 聚矽氧化合物, 十甲基環五矽氧烷, ...	溶劑, 柔潤劑			3
Talc Powder タルク滑石, 滑石粉		1	0	5-8
Butylene Glycol １，３－ブチレングリコール丁二醇, 1, 3-丁二醇	溶劑, 香料, 黏度控制, 肌膚調理, 保溼	1	0	1
Dimethicone Copolyol ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体矽氧聚合體烷	抗靜電, 柔潤劑			1
Sodium glutamate Ｌ－グルタミン酸ナトリウム谷氨酸鈉, 穀氨酸一鈉	香料, 肌膚調理			1
Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer 架橋型シリコーン末（２）聚二甲基矽氧烷/乙烯基聚二甲矽氧烷交聯聚合物	黏度控制			1
Sorbitan sesquiisostearate セスキイソステアリン酸ソルビタン失水山梨醇倍半異硬脂酸酯, 山梨坦倍半異硬脂酸酯	乳化劑			1
Quaternium-18 hectorite ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト季銨鹽-18 水輝石	黏度控制			1
Calcium Stearate ステアリン酸カルシウム硬脂酸鈣	界面劑, 乳化劑			1
Sodium Citrate クエン酸ナトリウム檸檬酸鈉, 枸櫞酸鈉	酸鹼調節, 抗氧化			1
Tetrahydro Tetramethyl Cyclotetrasiloxane テトラヒドロテトラメチルシクロテトラシロキサン暫無
Citric Acid クエン酸檸檬酸	酸鹼調節			1-2
Sodium phosphate リン酸二水素ナトリウム磷酸二氫鈉				1
Tetradecene テトラデセン十四烯	溶劑, 黏度控制, 柔潤劑
Sodium Pyrosulfite ピロ亜硫酸ナトリウム重亞硫酸鈉, 焦亞硫酸鈉, 偏亞硫酸鈉	防腐劑			2-4
Hamamelis Virginiana Extract ハマメリスエキス北美金縷梅萃取				1
Eriobotrya Japonica Leaf Extract ビワ葉エキス枇杷葉萃取	肌膚調理			1
Phenoxyethanol フェノキシエタノール苯氧乙醇, 苯氧基乙醇, 二苯氧基乙醇	防腐劑			2-4
Iron Oxides 黄酸化鉄	色料	0	0	2
Iron Oxides ベンガラ氧化鐵	色料	0	0	2
トラネキサム酸無符合資料
ｎ-オクチルシリル化酸化チタン無符合資料
黄酸化鉄被覆雲母チタン無符合資料
黒酸化鉄は「有効」無表示は「その他の」無符合資料

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