TAKAMI 高机能啫喱成份 | CosDNA

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发表于 2018-07-16 , 资料来源：官方网站

成分	概略特性	粉刺	刺激	安心度
Aqua 水	溶剂			1
Glycerol グリセリン甘油, 丙三醇	溶剂, 黏度控制, 肌肤调理, 保湿	0	0	1-2
Pentylene Glycol ペンチレングリコール戊二醇, 1, 2-戊二醇	保湿			1
Sorbitol ソルビトール山梨醣醇, 山梨糖醇, 山梨醇, 葡萄糖醇, ...	黏度控制, 肌肤调理, 保湿	0	0	1
Trisodium ascorbyl palmitate phosphate パルミチン酸アスコルビルリン酸３Ｎａ维他命C酯磷酸钠盐	抗氧化
Ascorbyl Glucoside アスコルビルグルコシド维他命C配糖体, 维生素C醣甘, 维他命C醣甘, ...	抗氧化, 美白			1
Magnesium Ascorbyl Phosphate リン酸アスコルビルＭｇ维他命C磷酸镁盐, 维他命C磷酸镁, ...	肌肤调理, 抗氧化, 美白			1
Sodium Hyaluronate ヒアルロン酸Ｎａ玻尿酸钠, 透明质酸钠, 玻璃酸钠	肌肤调理, 保湿	0	0	1
Gynostemma Pentaphyllum Extract アマチャヅルエキス绞股蓝提取物	肌肤调理, 收敛			1
or Gynostemma Pentaphyllum Leaf Extract アマチャヅルエキス绞股蓝叶提取物	肌肤调理			1
Arginine アルギニン精氨酸	抗静电, 肌肤调理, 保湿			1
Creatine クレアチン肌酸	肌肤调理			1
Biopeiderm ビオチン生物素, 维生素H, 维生素B7, 辅酶R				1
Riboflavin リボフラビン维他命B2, 核黄素	色料			1
Calcium pantothenate パントテン酸Ｃａ泛酸钙	抗静电			1
Vitamin B6 Hydrochloride ピリドキシンＨＣｌ吡多素 HCL, 盐酸吡哆辛, 吡哆素 HCl	抗静电, 肌肤调理			1
Glucosyl Hesperidin グルコシルヘスペリジン葡萄糖基橘皮柑, 糖化橙皮苷, 醣化橙皮苷, ...	肌肤调理, 保湿			1
THIAMINE HCl チアミンＨＣｌ硫胺素 HCL	肌肤调理
vitamin E トコフェロール生育醇, 生育酚, 维他命E, 维生素E, ...	抗氧化	2-3	2	1
Tocopheryl Acetate 酢酸トコフェロール醋酸盐维他命E, 醋酸生育酚酯, 生育酚醋酸酯, ...	肌肤调理, 保湿, 抗氧化	0	0	2-3
Buxus Chinensis Oil ホホバ種子油荷荷葩油, 荷荷巴油, 荷荷芭油, 霍霍巴油, ...	保湿, 油性滋润	2	0-2	1
Acrylates/C10-30 alkyl acrylate crosspolymer （アクリレーツ／アクリル酸アルキル（Ｃ１０－３０））クロスポリマー丙烯酸/C10-30烷基丙烯酸聚合物, ...	黏度控制			1
Betaine ベタイン甜菜硷, 三甲基甘氨酸, 甜菜碱, 甜菜碱	黏度控制, 抗静电, 保湿			1
Carbomer カルボマー卡波莫, 卡波姆, 聚羧乙烯, 卡波树脂	黏度控制	1	1	1
Phenoxyethanol フェノキシエタノール苯氧乙醇, 苯氧基乙醇, 二苯氧基乙醇	防腐剂			2-4
KOH 水酸化Ｋ	酸碱调节			2-5

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