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Triethoxycaprylylsilane
三乙氧基辛基硅烷

Cas No:2943-75-1

结合剂
注明出自 CosDNA,并提供连结 http://www.cosdna.com 方可引用本资料

修訂:2008-07-29
Layla
  
2012-07-15 21:17
垃圾,对肌肤刺激性低,难渗入穿越角质层,容易卸妆移去,不会造成堆积的垃圾(取自张丽卿 博客分享)
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